晶圆激光退火
激光退火设备用于离子注入工艺之后,进行退火,以消除晶格缺陷和消除硅结构的晶格损伤,提高晶片的结晶质量,对运动台的精度和低速运动时的速度波动性有更高要求。
  • 项目需求
    激光退火设备用于离子注入工艺之后,进行退火,以消除晶格缺陷和消除硅结构的晶格损伤,提高晶片的结晶质量,对运动台的精度和低速运动时的速度波动性有更高要求。

  • 解决方案

    雅科贝思提供高性能XYZ双驱龙门运动平台,及高性能控制系统的整套打包解决方案。在激光退火过程中,雅科贝思龙门平台具有高精度和运动稳定性。

    XYZ轴均采用Akribis专利设计AUM系列的无铁芯直线电机,无齿槽效应,这本身就保障了低速运动时更高的稳定性;采用特殊光栅尺,实现更高的精度和更低的热膨胀系数;配套高性能运动控制器,其优化的龙门算法可以在很大程度上地将龙门平台的性能发挥优势。


  • 主要参数

    请咨询cust-service@akribis-sys.cn                                

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